Intel Ice Lake w 2018 roku: proces 10 nm dla każdego modelu z tej rodziny?

Strona głównaIntel Ice Lake w 2018 roku: proces 10 nm dla każdego modelu z tej rodziny?
16.08.2017 11:44
Intel Ice Lake w 2018 roku: proces 10 nm dla każdego modelu z tej rodziny?

Na dobre pożegnaliśmy „tik-tak”, miniaturyzacyjny cyklIntela. Następcą czipów Skylake, wykonanych w litografii 14 nm,miały być przecież czipy Cannon Lake, wykonane w procesie 10nanometrów i wprowadzone na rynek już pod koniec zeszłego roku.Tymczasem nic z tego. Najnowsze procesory Kaby Lake to wciąż 14 nm,a zapowiadane na jesień czipy Coffee Lake też będą robione wprocesie 14 nm – tyle że trzeciej generacji. Miniaturyzacjaokazała się zbyt trudna. Już teraz jednak Intel obiecuje następcę,wykonanego w procesie 10 nm. Nowa rodzina nosić będzie nazwę IceLake, i być może pozwoli na powrót do starego cyklu.

*Niezwykła wydajność i responsywność *–to wszystko, co Intel do tej pory oficjalnie powiedział o IceLake, określając tę rodzinę procesorów jako następców(sic!) 8. generacji procesorów Core, wykonanych w procesie 10 nm. Todezorientujące ogłoszenie: czyż 8. generacją nie jest14-nanometrowy Coffee Lake?

Całe zamieszanie bierze się zrozdzielenia linii produktów na desktopy i laptopy. Desktopoweprocesory najwyraźniej miałyby pozostać w procesie 14 nm, obecnieKaby Lake (2 generacja) i Coffee Lake (3 generacja). Tymczasem wśródoferowanych czipów dla laptopów pojawić by się miały zarównoukłady Coffee Lake jak i pierwsze, 10-nanometrowe układy CannonLake. Te ostatnie trafiłyby najpewniej tylko do „najmniejszych”modeli, o najniższym TDP, tam gdzie nowy proces 10 nm byłbyopłacalny.

Wygląda więc na to, że ósmageneracja Core byłaby generacją hybrydową, obejmującą zarównoCoffee Lake jak i Cannon Lake – a wszystko to przez niekończącesię problemy z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie(EUV). Przeskok ze zwykłej fotolitografii, w której używa sięświatła o długości fali 193 nm do litografii EUV, gdzie używasię światła o długości fali 13,5 nm jest technicznieekstremalnie trudny, choćby dlatego, że manipulowanie takimświatłem wymaga zupełnie nowych metod optycznych, skomplikowanychsystemów luster, a nie soczewek, które pochłaniałyby całepromieniowanie.

Dlatego też komercyjny debiutlitografii EUV jest nieustannie przekładany „na następny rok” –mówiono o niej już w latach dziewięćdziesiątych, pierwsze czipyzrobione w EUV mialiśmy widzieć już w 2013 roku, a tymczasempierwszeprototypy pokazał IBM w 2015 roku, dopiero zaś w tym roku udałosię pokazać pierwszy czip całkowicie wykonany w EUV, w procesie5 nm.

Potwierdzony teraz Ice Lake,będący drugą generacją procesu 10 nm Intela, mógłby ponownieujednolicić linie czipów desktopowych i laptopowych – o ileokazałby się opłacalny dla tych większych układów z wyższymTDP. Z drugiej jednak strony trudno oczekiwać, by było inaczej: dlaIntela niezręcznie byłoby oferować desktopowe czipy wciąż wprocesie 14 nm, podczas gdy główny konkurent swoje planowane na2018 rok rdzenie Zen 2 chce wykonywać w procesie 7 nm.

Programy

Aktualizacje
Aktualizacje
Nowości
Udostępnij:
Komentarze (27)